纳米压印光刻（NIL）可是号称可以媲美极紫外光刻（EUV）的技术。
虽然都是用于芯片加工的顶尖技术，可两项技术的方向并不一样。
芯片加工最重要的一环——蚀刻，是用氢氟酸在高纯度硅片上蚀刻加工半半导体元件所需要的沟槽，这一步，所有的半导体加工路线都是一样的。
而在这之前，为了保证应该被蚀刻的地方被蚀刻，需要在硅片上涂上一层保护用的光刻胶：需要蚀刻的地方，将光刻胶除掉。
而在除掉不需要保护的光刻胶时，衍生出了纳米压印光刻（NIL）和深（极）紫外光刻（DUVEUV）。
深紫外光刻（DUV）或者极紫外光刻（EUV）的原理是，利用凸透镜片的聚焦作用，汇聚高能光线，透过等比例雕刻了半导体元件形状的透光板（掩膜版），对光刻胶进行烧蚀“除胶”处理。
而纳米压印光刻（NIL），其实上跟光刻不沾边，它是利用电子束雕刻半导体元件的“印章”形状，然后压在柔软的光刻胶涂层上，以实现“除胶”。
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与复杂的紫外光刻技术相比，纳米压印光刻不需要复杂的光源系统，也不需要加工精度达到原子价格的镜片系统，只需要精准的电子加速器就可以做到。
因此，在周岩重生之前的那段时间，纳米压印光刻（NIL）号称是可以最先达成1纳米加工制程的光刻工艺。
虽然周岩对NIL也算是觊觎已久了，可拿到之后，周岩并没有马上进行研究：比起光刻工艺，NIL的技术难度无疑更高，因为它涉及高能物理以及量子物理领域。
“还是存起来当技术储备吧！”
至于已经单手的AlphaGo，周岩也没急着进行研究：不说眼下自己手里还没有能够容纳这玩意儿的服务器，就算自己想要研究那些代码，也力有未逮，里面的代码数量，是以十万计的。
想来想去，周岩还是研究奖品的打算，背起笔记本跑到了学校的教学楼，上起了已经中断了一段时间的自习。
周岩的突然回归，让班上很多觊觎第一名宝座的人有点无所适从：这货怎么突然又奋发图强了？
周岩倒是想努力地回归日常，可才过了一天，刘安国就打电话过来骚扰了：“兄弟，那些资料你是从哪里弄到的！”
“从师父手里继承的，”说谎，周岩已经死轻车熟路了，完全将自己代入了虚拟的角色中，“前一阵子整理资料的时候发现的，对了，刘哥，资料没什么问题吧？”
“专家坚定过了，是真的！”刘安国的声音中透着激动，“兄弟，你这些资料来得可真及时呀……”
“有用就好！”
周岩都有点心虚。
这些资料室怎么来的，周岩隐隐已经猜到了：有很大的几率，是系统根据史实“还原”出来的，要出鉴定书的话，也是“无法确定为伪造”，因为这些资料的原件都是真实存在过的。